




氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置
科儀產(chǎn)品主要有:薄膜制備設(shè)備,真空冶金設(shè)備,檢漏設(shè)備,真空系統(tǒng)等非標(biāo)真空產(chǎn)品;系列分子泵,離子泵,鈦升華泵,深冷捕集泵等高真空獲得設(shè)備;系列干式渦旋泵,干式爪泵,干式螺桿泵等無油真空獲得設(shè)備;測試方法,使用氦質(zhì)譜檢漏儀的正壓法,先將滅火器內(nèi)沖入氦氣,然后放在密閉腔體內(nèi),腔體與氦質(zhì)譜檢漏儀相連,工作時先將腔體內(nèi)抽真空,到達(dá)一定的真空度后開始檢漏,測試漏率在10-5mbar。超高真空環(huán)境模擬設(shè)備等高新技術(shù)產(chǎn)品。今天科儀的小編就和大家分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置有哪些,希望對您有所幫助!
1. 檢漏儀專用分子泵
2. 機(jī)械泵或者干泵
3. 定制檢漏儀專用電磁閥
4. 內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)漏口
5. 放大器
6. 采用質(zhì)譜專用模塊
以上是科儀為您一起分享的內(nèi)容,科儀專業(yè)生產(chǎn)氦檢漏,歡迎新老客戶蒞臨。
氦質(zhì)譜檢漏原理
氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)是以無色、無味的惰性氣體氦氣為示蹤介質(zhì)、以磁質(zhì)譜分析儀為檢測儀器,用于檢漏的一種檢測技術(shù),它的檢漏靈敏度可達(dá)10-14~10-15Pa?m3/s,可以準(zhǔn)確確定漏孔位置和漏率。氦質(zhì)譜檢漏儀主要由質(zhì)譜室、真空系統(tǒng)組件和電子學(xué)控制元件三大部分組成。質(zhì)譜室接在分子泵的高真空端,入口接在分子泵和機(jī)械泵之間,利用分子泵對不同氣體具有不同壓縮比的特點(diǎn),氦氣逆著分子泵的抽氣方向進(jìn)入質(zhì)譜室。清除時間在理論上與響應(yīng)時間相同,但由于儀器零件對氦的吸附和脫附作用的影響,清除時間一般要更長些。檢漏儀在質(zhì)譜室中將氣體電離,這些離子在加速電場的作用下進(jìn)入磁場,在洛倫茲力作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn),由于不同荷質(zhì)比的離子具有不同的電磁學(xué)特性,偏轉(zhuǎn)半徑各不相同,在擋板的作用下,氦檢漏儀的收集板只允許帶正電的氦離子被接收到,單位時間到達(dá)收集板的氦離子對應(yīng)于一個電流信號,這個電流信號正比于進(jìn)入到達(dá)收集板氦離子的數(shù)量,電流信號經(jīng)過放大后顯示在質(zhì)譜儀的顯示面板上,其大小反映了泄漏點(diǎn)的漏率,通過泄漏率大小來確定該位置泄漏程度的大小。
氦質(zhì)譜檢漏儀的示蹤氣體選用氦氣,是因?yàn)楹饩哂幸韵聝?yōu)良特性:
①氦氣在空氣中的含量少,體積含量為5.24×10-6,如果氦氣在環(huán)境中的含量超過標(biāo)準(zhǔn),可以比較容易地探測到極微量的氦氣;
②氦分子小、質(zhì)量輕、易擴(kuò)散、易穿越漏孔、易于檢測也易于清除;
③氦離子荷質(zhì)比小,易于進(jìn)行質(zhì)譜分析;
④氦氣是惰性氣體,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,不會腐蝕和損傷任何設(shè)備;
⑤氦氣無毒,不凝結(jié),極難容于水。
今天科儀小編和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏的工作原理,希望對您有所幫助!
氦質(zhì)譜檢漏儀常用檢漏方法及標(biāo)準(zhǔn)
氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測量原理,實(shí)現(xiàn)被檢件的氦泄漏量測量。當(dāng)被檢件密封面上存在漏孔時,示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會從漏孔泄出,泄漏出來的氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后,由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識別能力,僅給出氣體中的氦氣分壓力信號值。在獲得氦氣信號值的基礎(chǔ)上,通過標(biāo)準(zhǔn)漏孔比對的方法就可以獲得漏孔對氦泄漏量。此款氦質(zhì)譜檢漏儀堅(jiān)固耐用,抗震性能極強(qiáng),可反復(fù)使用數(shù)年仍保證高精度的檢漏漏率。
根據(jù)檢漏過程中的示漏氣體存貯位置與被檢件的關(guān)系不同,可以將氦質(zhì)譜檢漏法分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法,下面分別總結(jié)了這四種氦質(zhì)譜檢漏法的檢測原理、優(yōu)缺點(diǎn)及檢測的標(biāo)準(zhǔn)。
真空法氦質(zhì)譜檢漏
采用真空法檢漏時,需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時,氦氣就會通過漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。由于He具有無色、無臭、無活性、不可燃的特性,因此一般檢漏都采用氦氣(He)作為示漏氣體,但也有用氫氣(H)作為示漏氣體的,考慮到它的化學(xué)性質(zhì)及危險性,在應(yīng)用中較少使用,所以實(shí)際大部分檢漏使用的都是氦氣。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實(shí)現(xiàn)漏孔的準(zhǔn)確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來,在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣,可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測量。